99,99% Alta densidad Y2O3 objetivo Yttria óxido de itrio Ceramic esputtering Objetivo

Aplicación: Arquitectónico, Decoraciones de cerámica, Electrónica, Uso doméstico, Medicina, revestimiento de película pvd
Pureza: 99.50%
Tipo: Plato de cerámica
tamaño: 1inch 2inch 3inch o como su petición
oem: soporte
moq: 1pc

Products Details

  • Visión General
  • Descripción del producto
  • Parámetros del producto
  • Perfil de la empresa
  • Certificaciones
  • Fábrica y equipos
  • Embalaje y envío
  • PREGUNTAS FRECUENTES
Visión General

Información Básica.

No. de Modelo.
XK-Y2O3
materiales
y2o3
tiempo de entrega
7-21days
Paquete de Transporte
Vacuum Blister
Especificación
D50.8mm
Marca Comercial
XinKang
Origen
China
Código del HS
3824909990
Capacidad de Producción
10000PCS/Month

Descripción de Producto

99.99% High Density Y2o3 Target Yttria Yttrium Oxide Ceramic Sputtering Target
Descripción del producto
 
XinKang Factory Supplies Premier Top-Ranking 99,99% Alta densidad Y2O3 objetivo Óxido de itrio de itria Blanco de espumación cerámica  
Nombre Óxido de itrio Ceramic esputtering Target / Y2O3 ceramic diates
Material  Materiales cerámicos de óxido de itrio Y2O3
Pureza 99,9%-99,995%, 3N,3N5,4N,4N5,5N,5N5,6N.
Tamaño D3x3mm, 2inch,3inch,o como solicitud
Color Color blanco
Forma Gránulos, gránulos, planar/Round/Plate/Rotary/Bar , a petición.
Superficie Superficie pulida
Densidad Y. 4,47g/cm3
Y punto de fusión 1522°C
Aplicación Recubrimiento de película PVD, revestimiento de película fina óptica, uso industrial, proceso, área de semidaductor, experimentos, etc.
Elemento relacionado Al,mg,Cu,ni,Co,Fe,Zn,Sn,Bi,GA,GE,in,V,W,Mo,Nb,ta,Cr,ZR,ti,HF etc + objetivos de espumación de aleación de metal+objetivos de cerámica
Nota Soporte personalizar tamaño, forma, pureza, diferentes proporciones de aleación, etc.
Contáctenos primero (el precio se basa en el tamaño y la pureza)
 
Descripción:
Xinkang puede producir y suministrar una gama completa de blancos de esputo cerámico y blancos compuestos, incluyendo blancos de esputo de óxido, blancos de esputo de carburo, blancos de esputo de fluoruro, blancos de esputo de sulfuro, etc. La tecnología de producción  de blancos de esputo cerámico son la prensa caliente. Desde la selección de materias primas hasta el control de la temperatura, presión y  tiempo de sinterización de la prensa caliente, seguimos estrictamente el proceso de producción específico, por lo que los blancos de sputtering cerámicos terminados tienen  las características de alta pureza, alta densidad, color de superficie uniforme sin manchas y grietas, El usuario final puede obtener índices de erosión constantes y películas finas puras y homogéneas altas durante el proceso de PVD.
 
Objetivo de espumación de óxido de itrio;
Pureza: 99,99%;
Método de producción: Sinterización en caliente;
Dimensiones disponibles:
  Corona circular: Diámetro = 3 mm;
  Objetivo rectangular: Longitud = 3 mm;
Cantidad mínima de pedido: 1 piezas;
Tipo de unión: Indio, elastómero;
 
Objetivo de esputo de óxido de aluminio (Al2O3)
 
Objetivo de esputo de óxido de zinc de aluminio (AZO)
 
Óxido de indio (In2O3) - objetivo de espumación
 
Dianas de esputo de óxido de estaño de indio (ITO)
 
Objetivo de espumación de óxido de zinc (ZnO)
 
Óxido de estaño (SnO2) esputante objetivo
 
Óxido de tantalio (Ta2O5) objetivo de espumación
 
 Óxido de niobio (Nb2O5) objetivo de espumación
 
Materiales relacionados con el esputo
 
ZnO - objetivo de espumación
 
TiO2 objetivo de pulverización
 
MnO2 objetivo de pulverización
 
Objetivo de esputo de estaño
 
Si3N4 - objetivo de pulverización
 
Objetivo de pulverización Al2O3
 
Objetivo de sputtering SIC
 
Objetivo de pulverización Co2O3
 
Objetivo de la ALN
 
ITO escupir el blanco
 
VO2 objetivo de pulverización
 
SiO2 objetivo de pulverización
 
Fe2O3 - objetivo de esputo
 
Objetivo de espumación de MgO
 
SnO2 objetivo de pulverización
 
Cuo escupido objetivo
 
Objetivo de nio que escupe  
 
MoO3 objetivo de pulverización
 
WO3 objetivo de pulverización
 
LiFePO4 objetivo de pulverización
 
Objetivo de sputtering ZNS
 
Objetivo de pulverización Bi2Te3
 
Objetivo de brotar Ga2O3
 
Objetivo de pulverización de In2O3
 
Objetivo de pulverización Ta2O5
 
Objetivo de espumación Nb2O5
Parámetros del producto
Óxido de hafnio esputante objetivo / HfO2 objetivos cerámicos COA
99.99% High Density Y2o3 Target Yttria Yttrium Oxide Ceramic Sputtering Target
Aplicación:
1. Mantener y mejorar las propiedades superficiales de los materiales, como dureza, resistencia al desgaste, resistencia a la corrosión, etc.;
2. Se utiliza para preparar nuevos materiales o mejorar el rendimiento de los materiales existentes, como células solares, LED, pantallas planas, etc.;
3. Se utiliza para preparar componentes electrónicos, como transistores, circuitos integrados, etc.;
4. Se utiliza para preparar superconductores, películas ópticas, sensores y otros materiales.


Productos relacionados:
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Objetivos cerámicos
Óxido AI203, ZnO, ITO, MoO3, WO3, Nio, CeO2, In203, Ga203, etc.
Sulfuro Sna, WS2, MoS2, Fes, Sb2S3, etc.
Nitruro AIN, ESTAÑO, Si3N4, NbN, tan, MIL MILLONES, etc.
Carburo B4C, SiC, WC, TIC, TAC, etc..
Fluoruro YbF3, MgF2, CaF2, LIF, AIF3, etc..
Otros LaB6, MgB2, Sb2Te3, etc..
   
Etiquetas de aleación
Base de níquel NIV, NiFe, NiTi, Nico, nial, NICU, NiCrSi, NiCuTi, NiCuMn, NiCrCo, NiCoFeTi, etc
A base de hierro FECO, Feni, FeCoTaZr, FeMn, FeSi, FeCr, FeHf, etc.
Base de cobalto CoTaZr,CoCr, Cocu, CoCrW, CoCrMo.CoCrNiMo.etc
A base de cobre CuGa, CuNi, Cual, Cuti, CuernGa, CuNiTi, SnAgCu, etc.
A base de aluminio Alti, AlCr, AlCrSi, AlCu, AlSi, AlSiCu, AlSnCu, etc.
Otra aleación WTI, ZnAl, ZnSn
   
Objetivos metálicos
Metal de alta pureza Ni, TI, Co, Cu, Fe, Al, Sn, Zn, mg, in, GE, Si, Bi, Zn, V, etc ;
Metal de tierra rara SC, la, CE, PR, ND, Pm, SM, UE, GD, TB, DY, Ho, Er, TM, Yb, Lu, etc
Metal resistente HF, ZR, ta, Nb, w, Mo, etc.
El metal precioso Ir, RU, PD, SO, etc.
 
Perfil de la empresa
 
Fábrica:
Fundada en 2014, Changsha XinKang Advanced Materials Co., Ltd es una fábrica de primera categoría especializada en la investigación, desarrollo, producción, procesamiento, ventas, y servicio de materiales metálicos de alta calidad. Nuestra amplia gama de productos incluye elementos metálicos, aleaciones, objetivos de pulverización de metal, objetivos de aleación, objetivos cerámicos, materiales de evaporación, polvo de metal, polvo de aleación y otros artículos de metal personalizados. Cumplimos con las estrictas normas de GB/T, ASTM/B, ASME SB, AMS, DIN, JIS, y los requisitos personalizados de nuestros clientes, asegurando una calidad de primera en todas nuestras ofertas. Estos productos encuentran aplicaciones amplias en industrias como petroquímica, aeroespacial, aviación, construcción naval, energía, médico, militar, electrónica, protección ambiental, maquinaria, instrumentación, metalurgia y automoción. Nuestra moderna fábrica, que abarca 4000 metros cuadrados, está situada en Changsha, Hunan, y cuenta con la certificación de sistemas de gestión ISO9001:2015 y ISO14001:2015. Equipados con tecnología de vanguardia y un equipo de técnicos altamente cualificados, empleamos instrumentos de prueba avanzados que incluyen analizadores de azufre de carbono, espectrómetros, detectores de fallas, máquinas de cupping y probadores de rigidez para garantizar una calidad superior del producto. Nuestro compromiso con la excelencia, precios competitivos, entrega oportuna y un servicio postventa sin igual nos han ganado una base de clientes leales en EE.UU., Europa, Oriente Medio, Japón, Corea, Singapur, India y Kenia. Únase a nosotros en experimentar lo mejor en materiales y servicios de metal.
99.99% High Density Y2o3 Target Yttria Yttrium Oxide Ceramic Sputtering Target
Certificaciones

99.99% High Density Y2o3 Target Yttria Yttrium Oxide Ceramic Sputtering Target
Fábrica y equipos

99.99% High Density Y2o3 Target Yttria Yttrium Oxide Ceramic Sputtering Target
Embalaje y envío

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PREGUNTAS FRECUENTES
 

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